ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)
Publisher | 東京 : シーエムシー出版 |
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Year | 2007.4 |
Authors | 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ> |
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Location | Volume | Call No. | Barcode No. | Status | Comments | ISBN | Printed | Restriction | Reserve |
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Library Main Building 3rd fl. (Books in Japanese) |
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5400:800 | 110905536U |
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9784882319214 |
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Material Type | Books |
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Size | vi, 253p : 挿図 ; 21cm |
Other titles | other title:新しいレジスト材料とナノテクノロジー title page title:Nano technology and polymer resist |
Notes | 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー |
Subjects | BSH:リソグラフィー BSH:ナノテクノロジー |
Classification | NDC8:549.7 NDC9:549.7 NDC7:549.3 |
Language | Japanese |
ID | 1000264569 |
ISBN | 9784882319214 |
NCID | BA81772932 |
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