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ナノテクノロジーとレジスト材料 / 山岡亞夫監修
ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
(CMCテクニカルライブラリー ; 256)

Publisher 東京 : シーエムシー出版
Year 2007.4
Authors 山岡, 亜夫(1939-) <ヤマオカ, ツグオ>

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Library Main Building 3rd fl. (Books in Japanese)
5400:800 110905536U
9784882319214

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Material Type Books
Size vi, 253p : 挿図 ; 21cm
Other titles other title:新しいレジスト材料とナノテクノロジー
title page title:Nano technology and polymer resist
Notes 初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
Subjects BSH:リソグラフィー
BSH:ナノテクノロジー
Classification NDC8:549.7
NDC9:549.7
NDC7:549.3
Language Japanese
ID 1000264569
ISBN 9784882319214
NCID BA81772932 WCLINK

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